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标题: 推荐K-MAC光学薄膜测厚仪ST2000 [打印本页]

作者: beijingec 时间: 2009-3-26 11:36
标题: 推荐K-MAC光学薄膜测厚仪ST2000
本帖最后由 beijingec 于 2009-3-26 11:40 编辑

　　
设备简介
1.特点
操作简单易懂
非接触式、非破坏式测量方法
可同时测量多层膜厚度
实时测量
再现性好（精度可达 1A 以下）
厚度及光学常数（折射率、消光系数）
一次最多 3 层薄膜测量
测量结果制图
X-Y-Z 移动控制
CCD 影像显示
自定义测量过程
打印预览模式

2.应用领域
半导体 Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...
绝缘材料 SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...
聚合物 PVA, PET, PP, PR ...
LCD a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film
光学镀层 Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
可纪录材料 Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...
其它 Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors ...

3.可用的基片
Silicon SOI Al 2 O 3 Aluminium
SOS GaAs Glass ......
软件

4.分光反射镜的工作原理
利用可见光非接触式测量光源与信号通道如右图所示，钨－卤光源发出的光通过光学显微镜入射到样片上的薄膜上，然后从薄膜表面和基底反射的光通过入射光纤探针内中间的一个发射光收集光纤又入射到分光计（spectrometer）。这个反射光由探测器里的光栅根据波长分解后，由 CCD 转换成电子信号，再由 A/D 转换器转换成数字信号，最后通过通讯端口输入到电脑进行分析。
干涉频谱
–  相干光  →  表面反射  + 薄膜  / 底层反射  = 干涉现象  →  相长  / 相消干涉（与波长有关）

光谱拟合薄膜厚度
–  在波长范围里测量频谱的正弦波型由薄膜厚度和  N&K 值决定
–  由拟合计算测定频谱来优化薄膜厚度和  N&K 值

5技术指标
尺寸       190 x 265 x 316 mm
重量       12Kg
类型       手动的
测量样本大小       ≤ 4"
测量方法       非接触式
测量原理       反射计
特征: 测量迅速，操作简单
   非接触式，非破坏方式
   优秀的重复性和再现性
   用户易操作界面
   每个影像打印和数据保存功能
   可测量多达3层
   可背面反射

活动范围       150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围       200Å~ 35㎛(根据膜的类型)
光斑尺寸       20㎛典型值
测量速度       1~2 sec./site
应用领域       聚合体: PVA, PET, PP, PR ...
电解质:
半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
选择       参考样品(K-MAC or KRISS or NIST)
探头类型       三目探头
nosepiece       Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt
照明类型       12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device & Transformer

  联系人:  刘先生
  北京燕京电子有限公司
Beijing Yanjing Electronics co.,ltd.

地址：北京市朝阳区酒仙桥东路9号A2座西区7层
邮编：100016
Tel: 86-10-5823-7160
Fax: 86-10-5922-2787
Msn:po663340@hotmail.com
Website: www.beijingec.com
E-mail: liusp@beijingec.com

作者: beijingec 时间: 2009-6-17 10:25
顶大家需要光学薄膜测厚资料的话,可以来找我联系我邮件:liusp@beijingec.com

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