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标题: 电子枪束流不稳定 [打印本页]

作者: jonying 时间: 2009-4-20 12:40
标题: 电子枪束流不稳定
本帖最后由 jonying 于 2009-4-20 12:50 编辑

本人用的是日本机，在用电子枪蒸sio2时EMI电流有下降的趋势，设定125ma.刚开始有125过段时间《20-30秒》就只有110，高压有6060V，以前没有过这样，记得以前是5900V.请问有哪些可能的原因，我师傅被炒了，没人教，只有自学，还望各位不吝赐教本人邮箱jonying87@qq.com有什么资料都可以发给我，先谢谢你！

作者: noodlesy 时间: 2009-4-20 14:54
1# jonying

是硅靶冲氧气吗?

作者: jonying 时间: 2009-4-20 15:12
不是硅靶冲氧，是离子源冲氧气的

作者: 随风2008 时间: 2009-4-20 20:47
你们有没有用水晶监控?如果有用,电流是会随蒸发速率而自动改变的.

作者: jonying 时间: 2009-4-20 22:06
本帖最后由 jonying 于 2009-4-20 22:21 编辑

多谢楼上的兄弟！我们sio2是水晶控制的，速率0.14nm/s.到14nm厚停止，不过高压确实比以前高了！明天我再去仔细对比下速率和电流的关系。另外还想问下各位前辈们由于我没有人教，要怎样才有提升！很无奈。

作者: zzzz 时间: 2009-4-21 08:23
高压是设定的,若会变则查查高压柜是否正常

作者: jonying 时间: 2009-4-21 09:48
多谢楼上，今天也看了下速率超过设定值了，电流的确会下降，不过速率再降低的话电流上升不明显

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-4-21 13:42
蒸发速率才1.4埃/秒，这个速率太慢了。膜料是颗粒还是柱状的？
晶控的话两种功率反馈的模式，固定电流大小和自动调节的。要把 A/Sec/Power% 的参数设置好了，这个数值大点相对来说电子枪就反映迟钝点，调节到合适的数值就可以了。膜料premelting的参数要设置好了。
还是找个好师傅吧，入门先！有基础了后很多东西要靠自己去学习和摸索，毕竟知识和经验是要靠自己积累的，听到和看到的都是别人的东西，不是自己的。加油吧！

作者: jonying 时间: 2009-4-21 17:27
本帖最后由 jonying 于 2009-4-21 17:32 编辑

首先很感谢楼上的朋友，我们的sio2是颗粒状的。power90%230A左右我镀的是手机视窗的防手指膜，还有个问题现在镀sio2后再镀的防手指那个药，速率在0.2-0.4A/sec.我发现现在两个钼舟的电流有点上下浮动，而且有时两个电流《RH1和2》相差10A.我怀疑钼舟质量问题，不知对不对，其实我也想找个师傅，可惜本车间没高手，所以只有来论坛麻烦大家了。

作者: molang2003 时间: 2009-4-21 18:03
你看下电子枪结构中，那两段铜丝的连接情况。看是不是连接有问题！

作者: jonying 时间: 2009-4-21 18:29
应该不是铜线问题，我这九台机都这样，以前记得是5900

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-4-22 08:27
你是电子枪镀SiO2，阻蒸镀防水膜吧？其实防水膜用电子枪也可以镀，还节约成本，速率也快。你镀防水膜的速率太低，可能效果不好，一般都要5埃/秒以上。

作者: jonying 时间: 2009-4-22 11:18
本帖最后由 jonying 于 2009-4-22 11:20 编辑

蒸法是这样的！电子枪速率是要快，不过我这铜坩锅比防水膜药壳大得多，我觉得浪费药，不知楼上是从哪方面考虑的。《镀sio2也只熔了表面一层》

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-4-22 11:29
你的产品镀防水膜后用沸水煮2个小时后效果还好吗?表面硬度怎么样?

作者: jonying 时间: 2009-4-22 13:02
我看他们只做摩擦测试和那个电脑滴针，我也很怀疑质量

作者: yang5511 时间: 2009-4-22 20:36
我们这用的是新科隆的机器，电子枪的加速电压是6000v，蒸发的速率设定的12A/sec ，但是实际的沉积的速率一直是17A/sec，刚开始二氧化硅的时候电流设定的是100ma，但是实际的电流值是105ma。试着跳到90ma，刚开始能保持到10秒，后有跳到105ma，沉积的速率还是下不来。使用opm和水晶膜厚控制仪两个控制的。

请大侠们给出出招。

作者: 13599929219 时间: 2009-4-22 20:43
你应该选择的是光控来控制的，不是晶控控制的把他改为晶控应该可以了。

作者: jonying 时间: 2009-4-22 21:32
本帖最后由 jonying 于 2009-4-22 21:38 编辑

关于速率和电流问题，前面有位前辈说了，速率高了晶控会自动降低电流，但速率没下降电流又上升就不知道为什么了。…楼下继续补充。我们的sio2速率是你的整整1/10.电流是125MA.纳闷，怎么可以差这么多？…另本人新手上路。见笑了，还望哪位热心朋友讲解一二…

作者: z1206l 时间: 2010-7-2 15:43
速率也太低了吧，闪蒸试一下。

作者: 冰雨8788 时间: 2010-8-5 21:39
只要努力，定会成功，楼主加油。。。。。。。

作者: dushuren 时间: 2010-8-22 12:06
支持讨论，支持发帖

作者: yezhi381009880 时间: 2010-8-24 12:04
要是晶控镀膜的话，速流的大小是随着蒸发速率变化的。主要还是看你晶控仪的参数设定。
关于18楼的问题，应该是你光斑扫描的问题。在光斑大小，扫描速度，高压的大小都会对蒸发速流有很大的影响。

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