光电工程师社区
标题:
膜层的硬度
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作者:
tyronewang
时间:
2009-4-23 22:06
标题:
膜层的硬度
怎么样才能提高膜层的硬度?
作者:
tyronewang
时间:
2009-4-23 22:12
我们最近做了几个玻璃样品到国外,用的材料是AL2O3,Ti3O5,SiO2,三种材料的速率分别为3.5,3和6,在莱宝APS1104上做的,开APS源.样品寄到国外其它都过,竟然测试膜层耐擦试不过,好象是膜层硬度不够?不知大家有何方法提高膜层的硬度
作者:
13599929219
时间:
2009-4-23 23:10
提高硬度方面有好几种方法:1离子源辅助度2调整镀膜的速率3改变作业真空度4对镀制品进行镀前烘考等如果还有需要了解的可以加我QQ79293732(附镀膜)
作者:
jhxxmlhk
时间:
2009-4-24 08:14
最后层膜料用SiO2不行,耐擦拭性能比MgF2还要差。
作者:
tyronewang
时间:
2009-4-24 09:09
SiO2硬度不是比MgF2要好吗?为什么耐擦拭能力差呢
作者:
jhxxmlhk
时间:
2009-4-24 10:18
光滑的话耐擦拭就好点。
作者:
tyronewang
时间:
2009-4-24 11:29
jhxxmlhk 能留下联系方式多联系吗?
作者:
chugqchugq
时间:
2009-4-25 16:19
镀sio2时提高真空度(APS可正常工作),提高蒸发速率到10A
作者:
夏宾
时间:
2009-4-27 08:33
晶振片生产厂家,15068338776,夏经理
作者:
宇宙深处
时间:
2009-8-22 21:56
玻璃基材应该不会有这样的问题吧!!!!(加温350)
作者:
YJD
时间:
2009-9-2 21:38
可以适当的提高烘烤温度,可以有效增加膜层硬度
作者:
longmin
时间:
2009-9-3 00:02
鍍sio2時用iad加n2即可提高
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