光电工程师社区

标题: SiO2的速率 [打印本页]

作者: tyronewang 时间: 2009-4-24 11:33
标题: SiO2的速率
我现有两台国产设备,SiO2的速率做到4以上时,膜层的水煮试验就通不过(我的产品的要求是5%的盐水沸水煮20分钟),这样生产效率太低,不知何故?

作者: fql3310 时间: 2009-5-13 18:59
你的SIO2膜料是碎料,这种膜料里头有气泡也就是残余气体(可用放大镜看).固建议用块料(或环料)

作者: skyperfect 时间: 2009-5-18 16:35
我做的东西也是用SIO2碎料，水煮有时能通过，有时就不行，不知是不是也跟这个有关系。

作者: jingping 时间: 2009-5-18 17:27
SIO2中含有的杂气较多. 因充分预熔. 控制好SIO2的蒸发速率.给SIO2有充分结晶时间.

作者: zzzz 时间: 2009-5-19 08:55
SIO2充分预熔?难道想把它熔成块料.

作者: cherryu 时间: 2009-5-20 11:37
我家好像用0.7..很ok阿

作者: hannibal159 时间: 2009-5-21 18:51
我们的SIO2 速率 25A/S 膜强度很好不知道有没有更快更好的出来比比

作者: zzzz 时间: 2009-5-22 08:28
25,那是很强.....................

作者: fql3310 时间: 2009-5-22 19:32
以前在APS1104上镀过,15埃/秒,膜硬度当然没问题.7楼的你用的是块料?
楼主发的是膜层的水煮试验(我的产品的要求是5%的盐水沸水煮20分钟),可不是硬度实验.
VEECO的硬度会比莱宝的好.

作者: gxbm 时间: 2009-5-23 20:51
俺镀过70埃，出来也听好的。

作者: imgyang 时间: 2009-5-24 17:48
10# gxbm

这么快的速度，那光洁度怎么样？

作者: APS1104 时间: 2009-5-24 18:26
那当然是不行的啦。。。。。。。。。。。

作者: gxbm 时间: 2009-5-25 16:11
哈哈，电子枪坏了，束流不稳啊。

作者: jonying 时间: 2009-5-29 11:21

哈哈，电子枪坏了，束流不稳啊。
gxbm 发表于 2009-5-25 16:11

……………………呵

作者: ren619 时间: 2009-6-1 17:48
不用离子源镀 IR CUT ,,一般用多少啊？？？？？

作者: jinhui0524 时间: 2009-6-2 23:54

SIO2充分预熔?难道想把它熔成块料.
zzzz 发表于 2009-5-19 08:55

SiO2可以熔成块体么???
好像直接是升华的啊

作者: ipshjh2005 时间: 2011-7-13 13:11

作者: laoxianccc 时间: 2013-5-22 20:55

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