光电工程师社区

标题: 激光直写制作二元光学元件掩模研究 [打印本页]

作者: Baitmon 时间: 2009-5-7 20:59
标题: 激光直写制作二元光学元件掩模研究
二元光学是指基于光波的衍射理论，利用计算机辅助设计，并用超大规模集成(VLSI)电路制作工艺，在片基上(或传统光学器件表面)刻蚀产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。由于实际制作出的位相轮廓，是以2为量化倍数，对理想的连续位相轮廓的台阶形状近似，故被称为“二元光学元件”。

激光直写制作二元光学元件掩模研究.pdf

427.26 KB, 下载次数: 8, 下载积分: 光电贝 -10 元

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)