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标题: 光控的功能 [打印本页]

作者: molang2003 时间: 2009-5-23 16:09
标题: 光控的功能
向各位咨询下，如果用光控来实现AR膜，要求R≤0.3以下的，能不能实现呢？另外，如何来控制其重复性啊？

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-5-23 20:12
1。R≤0.3的带宽是多少，这个很重要。
2。进口机器可以保证稳定性，比如日本Shincron的，Optorun应该也可以。
3。反射率低擦拭丙酮后光谱反射率会变高，短波段明显，L材料建议使用SiO2。

作者: molang2003 时间: 2009-5-27 22:40
不好意思，这段时间一直在现场做工艺，所以没有时间来查看所发的帖子。

作者: molang2003 时间: 2009-5-27 22:54
是这样的，R≤0.3要求的宽带是450-650nm。我之前做过，如果用普通的四层G/ZrO2/MgF2/ZrO2/MgF2/A,理论上模拟可以做到（比如K9基底），但用设备工艺试做的话，在0.5左右。而且用光控做的话，重复性也不怎么好。我又用5层G/MgF2ZrO2/MgF2/ZrO2/MgF2/A做过，但其中有超薄层0.18(OPM)，即便是乘上比例因子，也不会超过0.2(OPM)。在工艺试做时，偶尔也能做得到0.3以下。但还是重复性不好，因为考虑到药材有误差的存在和没盘设备状态差异，故一直较难用光控来做0.3以下的光谱。因为我一直是用光控做东西，对晶控很不了解。所以，想请教下常用光控的各位能人贤才谈谈做类似高增透膜的心得。

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