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标题: I TO材料在减反射膜设计中的应用 [打印本页]

作者: diluoaosi 时间: 2009-6-3 21:41
标题: I TO材料在减反射膜设计中的应用
I TO材料在减反射膜设计中的应用

I TO材料在减反射膜设计中的应用.PDF

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作者: zzh1011 时间: 2009-6-3 22:12
看看！！！！！！！！

作者: jonying 时间: 2009-6-4 12:32
再顶…！！！！！！！！

作者: shangss2003 时间: 2009-12-20 22:21
谢谢楼主了拿去学习了

作者: 涛哥 时间: 2010-2-4 08:15
不管怎样先下了看看！

作者: sery1234 时间: 2011-2-22 16:03
ITO膜，没有做过，感觉挺高深的！

作者: kpliu 时间: 2011-2-23 15:55
我实验室专业从事各种镀膜、曝光、刻蚀研究，可附带从事加工服务。

镀膜厚度15纳米~1000纳米，同时可进行膜层厚度测试；其中磁控溅射材料可以为Cr、Ag、Al、Al2O3、ZnO、SiO2、Si、Si3N4，电子束蒸镀可以为Ag、Au、Al、Cr。

刻蚀有RIE和IBE，刻蚀厚度为20纳米~5微米。

有需要的可以联系，可根据客户要求加工。

欢迎来电咨询！

联系电话：

15108299816赵工邮箱：zyy44138172@126.com

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