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标题: 有关磁控溅射的问题 [打印本页]

作者: jiaofuyun 时间: 2009-6-21 17:32
标题: 有关磁控溅射的问题
为什么直流磁控溅射只能镀金属，射频磁控溅射导体非导体都能镀，为什么射频速率低于直流溅射的十分之一？？？？

作者: dave327 时间: 2009-6-22 10:48
陶瓷材料的靶材，如果不用射频的话，镀膜膜层的附着力会有问题的。所以使用射频来加强镀膜是离子的冲击能量。

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-6-22 20:02
最近我也在研究这些东西

C直流、直流脉冲、RF、中频等。找了点资料共享给大家。

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作者: zzzz 时间: 2009-6-23 08:23
直流的镀介质会中毒地

作者: 007foxhot 时间: 2009-6-23 10:51
学习学习~~~~~

作者: lnliwenchao 时间: 2009-6-25 18:00
为什么不能够哦下载呢，怎么回事呢

作者: lixuefeng 时间: 2009-6-28 21:10
谢谢！！需要这样的知识

作者: lixuefeng 时间: 2009-6-28 21:15
不好意思！要下载！！！

作者: gxbm 时间: 2009-6-30 08:52
了解一下。。。。

作者: nike777 时间: 2009-9-9 08:21
好东西，大家一起来学习

作者: nike777 时间: 2009-9-9 08:23
好东西，大家一起来学习

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