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标题: 瑞萨在45nm微控制器及SoC中采用美国Synopsys的OPC工具 [打印本页]

作者: bigpiano 时间: 2009-8-28 12:01
标题: 瑞萨在45nm微控制器及SoC中采用美国Synopsys的OPC工具
美国Synopsys宣布，瑞萨科技采用了该公司的掩模布局设计数据OPC（光学接近修正）工具“Proteus”。瑞萨将在通过45nm工艺生产的MCU（微控制器）及SoC设计中采用此次的工具。

　　新闻发布会上，瑞萨的杉原仁（设计技术管理部DFM及数字EDA技术开发部部长）发表了讲话。“由于严格的开发进程，本公司面临着必须将多数45nm产品送厂生产（Tape Out）的课题。此次采用的Proteus是满足了本公司要求的技术水准、开发进程和成本等必要条件的OPC工具。这将为加强本公司微控制器及系统解决方案的竞争力做出贡献”（杉原仁）。

　　Synopsys表示，Proteus可进行成本效益出色的OPC处理。其原因之一是即使在数百个处理器中进行分散处理，也可与处理器数量形成线性比例从而削减处理时间。另外，还准备了两种光学模型，即Field base(Dense Pixel-Based）模型和Flash base(Sparse-Sampling)模型，即使将其分开使用也会提高效率。密度高分层少的层面采用Field base可提高处理速度，密度低分层多的层面适合采用Flash base.

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