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| 从光谱来看确实比较简单的一个膜,1.52/2HL/1.0 的结构就可以达成。(H:TI3O5 ,L:SIO2)只楼主提到没有膜厚监控设备。其实膜厚监控最原始的设备就是人眼,从视窗观察基材的颜色变化就能比较准确判断膜厚。当然控制时间也是一种方法,只是它与蒸发速率、真空度有很大的关系,不容易控制的很准确。 |
| 围观一下,没做过CVD |
| 那就只能靠时间控制了 |
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1、稳定功率后TIO2溅射20分钟,SIO2溅射10分钟,测量厚度 计算折射率,计算时间平均每秒多少厚度 。 2、设计膜系,计算每层厚度需要时间 |
| 按时间,每次变化5%时间 |
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因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控 膜厚未知的情况下做 基底是PMMA 所以个人感觉比蒸发难很多 |
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因为是用磁控溅射做AR 没有晶控 没有光控 膜厚未知的情况下做 基底是PMMA 所以个人感觉比蒸发难很多 |
| 红色弯曲厉害,你自己的比较平滑,说明H太少,L太多。 |
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