[100]可获得高折射率膜层的膜料
有许多膜料可以得到高折射率的膜层(2.0 在500nm)。我们可以提供以下几种氧化钛(TiO2, TiO S(Ti3O5), Ti2O3和 TiO),氧化钽,氧化锆,氧化铪以及硫化锌。我们同时也提供默克独有的物
质H1, H2和H4。对一些特殊的要求,我们也可提供氧化铌和氧化钪。
上述有些物质仅在特殊的应用中使用。虽然硫化锌有柔软的膜层并能在多数的应用中被使用,但是在红外应用和卤素灯的冷光镜片中特别有效。对大多数的应用来说氧化钪太过昂贵,而氧化铌仅仅有时被用来替代氧化钽。本篇文章主要对如何优化膜料的选择(主要针对减反膜)作了一些阐述。
表1列举了大多数重要的氧化物膜层的折射率和透过范围。需要指出的是折射率和基片温度及沉积速度有关,而吸收与氧气压力有关。表1的数据是在下列条件下获得的:
基片温度 250-300°C
氧气压力 1-2*10-4 mbar
沉积速度 0.2-0.4 nm/s
我们有两种方法可获得宽带增透膜:
1. 用三种高,中,低折射率的膜料,这项技术大多被用在玻璃基底上。
2. 用两种高,低折射率的膜料,这项技术大多被用在塑料和玻璃基底上。
但无论是哪一种方法,都要求膜料在需要的光谱范围内有优异的可再生产性和高透过率。同时,需要有唯一的膜厚。 对第一种方法,需要有特别的折射率。 对第二种方法, 需要折射率有
很好的再生产性。
三层增透膜膜料的选择
在折射率为1.52的玻璃(BK7)上镀三层增透膜,最优化的折射率是1.38,1.63,2.10。低,中折射率的膜料比较好的选择是MgF2和Al2O3。然而,高折射率的膜料选择就比较麻烦了。
TiO2: 由于折射率太高不能被使用。
ZrO2: 有比较好的折射率,在接近紫外光,可见光和近红外光有很高的透过率。并且,膜层相当坚硬,牢固。 但是,它有两大缺点。 一是此材料在蒸镀时只是少量融化,这使它的再生产时不能
获得唯一的分散。二是它经常不能均匀的分散,并且,随着膜厚的增加折射率会降低。 因此,
在中间波段的反射率会增大。
HfO2: 在蒸镀时和ZrO2有类似的情况,但是它在紫外光波段有很好的透过率。缺点是成本过高。
H1, H2, H4: 这是默克专门研发的产品,有着最优化的特性。表2列举了上述所有产品的特性,从中可以看出H4是最合适的膜料。
H1,H2,H4可以实现所有需要的光学特性:
从接近紫外到近红外的整个波段内有很高的透过率
在接近紫外和可见光范围内没有吸收
均匀的膜层
在550nm时的折射率为2.1
在沉积温度时可完全融化,容易控制
唯一的膜厚
H4的特性在表3中被列举。 由于在低于沉积温度时就完全融化,因此,容易控制,并且保证了唯一的膜层。H4比H1及其它膜料的另一个优势在于它可以很轻松的达到所需的效果。
H4在融化过程中没有放气和喷射发生,因此, 氧气和沉积速率的变化对所获得的膜层几乎没有
影响。这是H4比我们很受欢迎的H2优越的地方。
表4总结了H4膜层的特性。 H4比H2优越的另一个地方是它在400nm以下有很高的透过率。在300nm时有吸收。
H4还有很好的经济性:它可以在钼的坩埚中用电子束蒸镀,这免去了昂贵的预热过程。此外,一个融化可以同时进行几个沉积,并且坩埚中的材料可以不断地被更新,而折射率保持不变。
两种膜料多层膜的膜料选择:
使用两种膜料来镀增透膜,SiO2通常被作为低折射率的膜料,氧化锆,氧化钽通常被作为高折射率的膜料。然而,H4也是一种优异的高折射率膜料,优点如下:
不变的折射率(即使从同一坩埚中沉积数次)
高度的均匀性
高透过率的膜层
H4和SiO2一起使用也可以在未加热的基片上形成坚硬的膜层,因此,它是应用在塑脂镜片上很好的膜料。H4也可以被应用在离子辅助沉积法中(IAD,IBAD)。
综上所述,H4在大多数增透膜上有着其它膜料无法比拟的优势。但是,在紫外应用中,H4则不能被考虑,此时,我们紫外级别的HfO2可适用。
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