请问：Ta2O5和ZrO2在镀制激光反射膜有和区别？

飞天狐狸 · 发表于 2004-4-14 20:10:00

谢谢！

cjyzq · 发表于 2004-4-15 01:02:00

用ZrO2在镀制激光反射膜耐激光功率高。

尘封 · 发表于 2004-4-15 20:16:00

以下是引用cjyzq在2004-4-14 17:02:29的发言： 用ZrO2在镀制激光反射膜耐激光功率高。

仔细讲下

cjyzq · 发表于 2004-4-16 04:47:00

因ZrO2在镀制激光反射膜时吸收小激光基本全部反射,所以耐激光功率高，激光反射膜应选ZrO2和SiO2两种敷料叠加多层镀膜。膜层耐激光功率的大小还与镀膜工艺有关。多做些实验吧！！！

eagle1 · 发表于 2004-4-18 05:24:00

To my knowledge, ZrO2 thin film will increase light scarttering, but the absorption will decrease. Do you mean the absorption decrease is the primary, is it?

cjyzq · 发表于 2004-4-19 03:33:00

OK!!!!

飞天狐狸 · 发表于 2004-4-21 18:46:00

但据我所知，ZrO2的散射很大啊!

cjyzq · 发表于 2004-4-22 04:08:00

我年轻我无所畏惧！这里有些摘录的他人论点如下：

1、有的膜料是受不起激光的照射的,主要是激光的能量问题,所以这样的膜常用抗激光膜料.

2、一般来说激光损伤都和膜层本身的瑕疵有很大关系.比如因为膜料的喷溅或电子枪、离子源的打火造成的膜层表面溅点、大颗粒等，当大功率的激光通过时都会对该处造成损伤。另外，膜料的选取也很关键。尽量选择吸收小的膜料做为高功率激光膜，可大大提高膜层的激光损伤阈值，从而达到好的抗激光损伤的效果。现在抗激光损伤很多人选用ZrO2和SiO2的膜料。你可以再查查相关方面的资料。有些介绍的很详细的。

3、薄膜激光损伤的机理很复杂，但是主要是薄膜中的微缺陷造成的。如结瘤微缺陷就是其中最主要的原因。另外膜系设计也有关系，设计的薄膜是驻波场的峰值最好别在膜层界面处。这方面上海光机所薄膜中心多年都从事这方面的研究，你可以和他们联系。另外美国劳伦斯利福摩尔实验室对这方面研究也很多，你可以登陆他们的网站看看。

4、抗激光损伤的机理主要是尽可能降低膜层对激光能量的吸收如果膜层对激光能量的吸收较大，那么激光强大的能量就会导致膜层在物理和化学上的变化，从而使膜层特性改变，甚至使膜层损伤不知对否，请指教！

5、应力的不同、膜的粗糙度也会造成激光对膜层的破坏

6、激光造成薄膜损伤原因是多方面的，主要有：1、光学基底制造不良。2、清洁处理不当。3、蒸发技术不佳。 nbsp; 还有：真空度、真空气氛、基底温度、膜料纯度、速率、烘膜处理等都对阈值有影响。膜料的匹配和膜系的层数以及膜料本身的吸收对阈值影响也很大的。 nbsp; 选好膜料以及相互间的搭配很重要：一般高折射率材料有ZnS,ZrO2,TiO2,PbO,ZnSe等，底折射率材料有MgF2,SiO2,ThF4,BaF2,CaF2等。另外膜料来源不同阈值也有不一样的：如ZnS有在26--298j/mm2..ZrO2有在33--114j/mm2之间变化的。

7、薄膜激光损伤的机理很复杂，但是主要是薄膜中的微缺陷造成的。如结瘤微缺陷就是其中最主要的原因。另外膜系设计也有关系，设计的薄膜是驻波场的峰值最好别在膜层界面处。

请问：Ta2O5和ZrO2在镀制激光反射膜有和区别？

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