光电工程师社区

标题: IR 镀膜，，SI2O 速度一般使用多少啊 [打印本页]

作者: ren619 时间: 2009-4-14 18:15
标题: IR 镀膜，，SI2O 速度一般使用多少啊
SI2O 速度一般使用多少啊

作者: ren619 时间: 2009-4-15 11:37
以前用 0.2nm/s,,现在用0.12nm/s 光洁度有没有影响啊，IR镀膜，无离子源，sio2 ，规格2*2t

作者: tails3582 时间: 2009-4-15 15:27
这么慢，有竞争力么？

作者: lunik 时间: 2009-4-15 15:35
呵呵。是好慢呀。不知道是否是写错了

作者: ZHJ7239 时间: 2009-4-17 23:57
SIO2速度 0.7-0.8nm/S

作者: zzh1011 时间: 2009-4-18 00:45
是好慢呀!最小也要有0.5

作者: xiu0214 时间: 2009-4-18 16:50
一般設定4-6 但太慢或太快則膜附著力不好

作者: 999520 时间: 2009-4-18 19:33
0.8到1.0左右，太慢膜层不牢！

作者: ren619 时间: 2009-4-19 10:29
不好意思写错了以前 2nm/s 现在 1.2nm

作者: 随风2008 时间: 2009-4-20 20:55

1nm/s+离子源

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-4-21 14:02
25埃/秒，有IAD更好。

欢迎光临光电工程师社区 (http://bbs.oecr.com/)