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标题: IAD、IBS、E-beam镀膜技术有何优缺点，烦请高人指点。 [打印本页]

作者: optikma 时间: 2009-5-26 09:23
标题: IAD、IBS、E-beam镀膜技术有何优缺点，烦请高人指点。
光学镀膜常用到这几种镀膜方式，请高人指点下技术上的优劣，还有不懂技术对镀膜材料是不是也有要求呢？

作者: zzzz 时间: 2009-5-26 10:14
IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思

作者: optikma 时间: 2009-5-26 11:00

IBS>IAD>EB-G
此大于号为优于的意思
zzzz 发表于 2009-5-26 10:14

多谢回复，能否说的更详细点。
在薄膜的性质上有哪些体现呢？

作者: optikma 时间: 2009-5-26 20:31
高人都哪儿去了？来指点下。。

作者: optikma 时间: 2009-5-27 14:15
继续顶贴，等待高人来解答

作者: jhxxmlhk 时间: 2009-5-27 20:42
无聊的问题。

作者: optikma 时间: 2009-5-27 21:15

无聊的问题。
jhxxmlhk 发表于 2009-5-27 20:42

想来阁下对这个问题是非常清楚了，还请不啬赐教！！！

作者: gxbm 时间: 2009-5-28 07:21
IAD是主流。其它比较少。

作者: ferry 时间: 2009-6-4 18:45
EG和IAD本身成膜方式还属于蒸发，材料分子（原子）获得的能量上，EG最低，导致膜层致密度不高，散射和吸收损耗大，IAD辅助成膜，蒸发材料获能量要高，成膜质量要较EG好的多（当然，与所用的离子源种类也有关），是目前光学薄膜领域的主流制备方法，IBS(IBSD)在成膜方式上属于动量传递，与前面两者有根本不同，较前两者，材料分子获得的能量更大，所以成膜质量要更好，硬度和光滑度更好，主要用于目前高端的，要求极低损耗的激光膜等，相对而言，IBS制备方法，沉积速率要较前两者低许多，造价更高，但可控性，精切性要好。

作者: cuijunyang 时间: 2009-6-5 15:58
楼上回复的太经典了!不过镀膜过程还是要靠人来完成，有经验的技术人员还是能补机器的缺点的！

作者: fasces9 时间: 2011-7-30 16:03
人与机器都重要

作者: 革命小酒 时间: 2011-10-3 00:29

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