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TiSi靶材,80/20at,99.9%, 直径115mmX厚30mm
用于制作TiSiN涂层,
构成了氮化物硬质涂层的优异材料。硅可保证优异的抗氧化性,而钛能确保涂层具有极高的硬度。两种材料组合起来,即使在很高温度下也具有耐磨性。
钛硅氮涂层耐磨性极强,能够帮助您实现高速机加工。即使机加工时不使用冷却剂也没有问题。利用钛硅氮化物涂层工具,即使对镍基合金和钛基合金等非常坚韧的材料,都可轻松加工
本公司还生产,工具刃具镀膜中还使用Ti靶材,Cr靶材,AlTi靶材,TiSiCe靶材,AlCrMgSi靶材,CrNiAlSi靶材,TiAlV靶材,WC靶材,TiAlSiMg靶材,VZr靶材等
本工厂拥有真空热压炉4台,其中18英寸2台,14英寸1台,3英寸1台,及熔炼炉6台,及后段加工设备
LaB6 靶材,熔点2230℃,密度4.7g/cm3 ,电阻率15μΩ·cm, 维氏硬度 27.7 Gpa
TiB2 靶材,熔点2980℃,密度4.5g/cm3,电阻率9~15μΩ·cm,维氏硬度 33.5 Gpa
ZrB2靶材,熔点3040℃,密度6.1g/cm3,电阻率7~10μΩ·cm,维氏硬度 22.5 Gpa
HfB2靶材,熔点3250℃,密度11.2g/cm3,电阻率10~12μΩ·cm,维氏硬度 29 Gpa
NbB2靶材,熔点3000℃,密度7g/cm3,电阻率12~65μΩ·cm,维氏硬度26 Gpa
TaB2靶材,熔点3100℃,密度12.6g/cm3,电阻率14~68μΩ·cm,维氏硬度25 Gpa
CrB2靶材,熔点1950℃,密度5.2g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度18Gpa
MoB2靶材,熔点2250℃,密度7.7g/cm3,电阻率20~40μΩ·cm,维氏硬度12Gpa
W2B5靶材,熔点2200℃,密度13.1g/cm3,电阻率21~56μΩ·cm,维氏硬度26.5Gpa
纯度:99.5~99.9% ,致密度高,工艺:真空热压,
单片最大尺寸:直径14英寸(355mm),长260mmX宽200mmX厚20mm
江西科泰新材料有限公司
JIANG XI KETAI ADVANCED MATERIAL CO., LTD.
联系人(Contact person):邹勇 (TOM)
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工厂地址:江西省高安市工业园通城大道
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