反应离子刻蚀RIE 反应离子刻蚀：这种刻蚀过程同时兼有物理和化学两种作用。辉光放电在零点几到几十帕的低真空下进行。基片处于阴极电位，放电时的电位大部分降落在阴极附近。大量带电粒子受垂直于硅片表面的电场加速，垂直入射到硅片表面上,以较大的动量进行物理刻蚀,同时它们还与薄膜表面发生强烈的化学反应，产生化学刻 ...

OptiLayer模块: 膜系设计主程序。容易上手，设计速度超快，膜系优化得更好。 OptiLayer 模块的功能，特点在于：1.能解决其它软件不能再优化的问题；2.运算速度快，比同时期的酮类软件快数百倍。其具体原因可参考针式算法专题。 OptiChar模块: 基于光度计和椭偏仪的测量，用于标定镀膜材料的光学常数。 OptiChar通过导入 ...

中和器（neutralizer）向离子源引出的离子束发射电子，使束电流和束电荷得到中和的离子发射部件。离子源栅极引出的是带正电的离子束。为了避免靶材或加工表面积累电荷，需要中和离子束电流；为了减少离子束中的空间电荷，以继续引出离子，减小羽流扩散角，需要中和离子束电荷。为此，需要在放电室和栅极外边设置中和 ...

双离子束溅射（DIBS）沉积技术是一种制备优质薄膜的重要方法。这种方法主要特点是运用一个功率较大的溅射离子源产生高密度的高能离子轰击靶材，因而可以在高真空下实施高速溅射沉积。辅助离子源用来改善薄膜的致密度和反应度，实现在低温下超低光学损耗和超多层膜的制备。 离子源常用RF激励源，其频率为13.56MHz。它使用 ...

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我们这里有一台九十年代产的德国镀膜机:BALZERS(巴尔蔡司),现处于维修状态,不知哪位大哥有此类设备的详细资料或者维修经验,(其结构与德国莱宝相差不大),请抽空与我联系,不胜感激. 联系邮箱:TIANWEITAO123@163.COM

薄膜多层谁会做啊？？是用pi做介质的！可以做空气桥！ 请指教啊！感激你的回复~！