请问哪位大虾能 讲解下关于磁控溅射SiO2时 能否加热吗? 因为我在溅射的时候,在利用热电偶加热,就无法加热.只能在常温是溅射

LPCVD多晶硅薄膜缺陷的形成及消除措施.pdf

掺杂浓度对多晶硅纳米薄膜应变系数的影响.pdf

我们这里的镀膜的玻璃多有生霉了！怎么办！！请问大家都是用什么方法来保存未镀膜的玻璃的啊！！！

optron原厂在国内不知有没有办事处？谢谢！

请教各位大侠，用什么胶粘贴基片进行镀膜比较好，希望能够耐高温300度，取片方便，不沾污。多谢谢啦！

等离子体表面处理设备应用领域： 1、清洗光学器件、电子元件、激光器件、镀膜基片、芯片 · 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片 · 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质 · 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石 · 清洗半导体元件、印刷线路板 · ...

论坛里面谁用过KVC900真空表的啊。。有说明书的传一份过来。。谢谢。。xuxu520520@163.com

我们镀的是全玻璃真空集热管,材料是 氮化铝..基体是 二氧化硅~~每次清理真空室的时候都要花上2天~~都是手动清理的~~拿一把自制的小锤在那慢慢的敲,,效率很低~~大家有什么好的办法可以快速清仓么?~~~~~

我是个新手，请大家帮忙。谢谢！我用直流磁控反应溅射的方法制备Ta2O5薄膜，Ar：O2=4：1，在1.0Pa时起辉，电流、电压可以分别控制在0.15A、500V；当降低气压至0.6Pa开始制膜，电压就会超过1000V（超过了量程），电流降到0.05A以下，而且得到薄膜平整度较低（300nm，RMS=1.2nm）。以前设备状态好的时候，在0.6Pa的气压下，电 ...