硅片CMP抛光工艺技术研究

蓝宝石衬底双面研磨亚表面损伤双片式角度抛光法检测 Double-substrate angle polishing to detect the damage on sapphire substrate body after double-grinding 下载全文 作　　者：徐晓明[1,2] 刘道标[2] 周海[2] 卓志国[1,2] 臧跃[2,3] Xu Xiaoming, Liu Daobiao, Zhou Hai, Zhuo Zhiguo, Zang Yue （ 1 Changzhou Un ...

表面缺陷标准：依据美国军用标准MIL-PRF-13830B用两组数字表示表面缺陷大小。例如40/20（或40-20）前者限制划痕大小，后者限制麻点大小。道子、亮路都统称为划痕。斑点、坑点、点子 都称为麻点。规定长与宽的比大于4：1的为划痕；长与宽的比小于4：1的为麻点。 ...

光学生产工艺.

各位老师好 本人在工作中遇到了一个问题，请大家多多指教，我先多谢大家了，我们在试生产一种投影设备，会用到一种口径365mm的椭球冷光镜，是在紫外高反，其他的波长透过，(沈阳汇博有生产此类产品） 我们的使用方式是在此冷光镜的第一焦点安装一个5kw的短弧高压汞灯，问题出在此椭球冷光镜在试用时一直出 ...