伯东企业（上海）有限公司-----PECVD，RIE，ICP，PLD，LMBE，CIGS，离子源等

伯东企业（上海）有限公司是国外先进半导体生产、研发设备，真空设备以及科学仪器的专业代理商，产品包括：
1、        美国Plasma-Therm公司系列半导体刻蚀 / 沉积系统。
2、        台湾凯柏科技PLD、LMBE、CIGS设备
3、        美国Kaufman & Robinson公司离子源产品

Plasma-Therm公司总部位于美国佛罗里达州，成立至今已经有35年，专业生产半导体生产、研发所用之RIE、ICP、PECVD等设备。在固态发光材料、无线芯片、光掩膜、纳米技术、MEMS / NEMS、太阳能、数据存储、光电器件等Si基半导体以及化合物半导体的薄膜沉积、薄膜刻蚀方面都有相应的解决方案，满足2寸——8寸片的生产以及研发。
产品特色：工艺控制准确对成膜反应实时监控；占地面积小；配置灵活，既可采用全自动，也可采用手工操作；产量大；工艺适应性强。
产品系列有：LAPECVD、Versaline、790、Mask Etcher等。
公司网页：http://www.plasmatherm.com


台湾凯柏科技总部位于台北，专业设计制造各种科研用PLD、LMBE、E-Beam、CIGS等设备。
产品特点：系统高度客制化满足各种用户需求、美国电子束抛光真空腔体并配备德国Pfeiffer真空泵保证系统超高真空度（可达10E-11Torr）、标配Coherent准分子激光器、光路准确稳定后期不必再次调整。系统扩展性强，除可配备RHEED外，还预留多个法兰可接其他仪器。
公司网页：http://www.dualsignal.com.tw


美国Kaufman & Robinson（KRI）公司位于美国科罗拉多州，已有30年历史，专业生产离子源。著名的考夫曼（Kaufman）离子源便是以该公司创始人Kaufman博士命名。KRI离子源以离子电流强、电荷中和性能好、性能稳定著称。KRI的离子源主要应用于离子辅助镀膜（IBAD）、工件预清洁（Pre-clean），溅射（Sputtering）等。产品分为有栅以及无栅（End-Hall）型离子源；离子方向有准直以及散射；中和方式有灯丝及电子枪；供电方式分为AC和DC；离子电流涵盖500mA---4000mA
公司网页：http://www.ionsources.com/
   

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