极紫外光刻的投影系统～～4反境or5反境系统～～请教！

windeyes · *发表于* 2003-5-19 20:14:00

有人做极紫外光刻（EUVL）吗？
我想问问它的投影系统的设计，特别是关于4反境or5反境系统的光学设计问题，
例如美国EUV LLC的ETS机器的一些性能，有具体数据最好：）
呵呵，如果是3反或者是2反就不必拉。。。。。

windeyes · *发表于* 2003-5-20 16:49:00

不会没人知道把～～～很急阿

回复|共 1 个