请问溅射膜的附着性如何？

darly · *发表于* 2004-2-6 01:32:00

请问溅射膜的附着性如何？
玻璃基板边缘有膜剥落的话，是何种原因造成？

coatingli · *发表于* 2004-2-6 01:37:00

是磁控溅射吗，应该比热蒸发的要好多的，不过膜层应力会大些。

darly · *发表于* 2004-2-6 01:42:00

是啊！是磁控溅射！
若是有应力产生，为何使用粘胶带测试时，
只有边缘出现膜掉落？应该是全面性的剥落啊？
请指教！感谢！

coatingli · *发表于* 2004-2-6 01:45:00

不知道您出现的具体状况是什么，是四周边缘都掉膜，还是只有一个边缘，有没有考虑清洗，以及玻璃在存放过程中是否出现了发霉。一般玻璃发霉是从边缘开始的

yh15430 · *发表于* 2004-2-6 05:25:00

应主要考虑是基片清洁不够，基温不合适1

likeoe · *发表于* 2004-2-6 07:08:00

靶多大？基底多大？是不是所有周围都剥落？

darly · *发表于* 2004-2-6 21:24:00

我们有做直线切割后，膜从切割边缘掉一点点！
一开始我也认为是基板清洁的问题……
只是用粘胶带作测试却只有切割边缘会一点点掉膜，其它的地方就不会……
这样真的很难判定！
就请集思广益救救我吧！

chugqchugq · *发表于* 2004-2-7 18:49:00

边缘效应

wazxq · *发表于* 2004-2-7 23:51:00

他说的是在切割后边缘脱膜呀，这样的话就是膜不牢了，我用离子辅助镀膜做Nb2O5时遇到过这种情况，Ta2O5没有，就是膜不牢，看看离子源有没问题，以及真空等等

darly · *发表于* 2004-2-8 23:54:00

您所指的[边缘效应]指的是什么意思？
可否进一步说明！

Wazxq兄，请教一下：
因为我也是使用Ti靶，不知您是如何使用？
真空、离子源POWER………等等！
我都已经使用到2.0*10-1Pa，真空的问题应该可以排除吧！

wazxq · *发表于* 2004-2-9 22:59:00

我是用离子辅助镀膜，不是溅射，我对溅射镀膜不懂，所以不敢乱说。

你是用VEECO的SPECTOR 吧，我用的是ION TECH的16mm离子源，两种镀膜还是不同的。
不过是溅射镀膜的话，离子源肯定重要，可检查一下。在设备保证的情况下，就是摸索工艺了。

chugqchugq · *发表于* 2004-2-10 01:28:00

镀膜时薄膜的应力分散分布，达到一种平衡，线切割后，薄膜的边界变了，应力必须重新分布，边缘掉膜是应力重新分布的一种表现。要解决就要降低应力等。

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