[讨论] 光学元件表面铜膜如何去除

 火...
4.7k 5
发表于 2011-1-5 19:01:03|上海 | 查看全部 阅读模式
去除后不能产生表面应力,同时保持原有的粗糙度,大概1nm,机械方法可能会产生应力,化学方法可能会降低粗糙度。
大家有什么好的方法吗?

回复|共 5 个

yang0593 Lv.8 发表于 2011-1-5 19:51:41|上海 | 查看全部
用阻尼布抛光皮盘,加上进口多晶体钻石粉W0.25的抛光就可出掉,而且不会破坏光洁度和平面度,
gangyixu Lv.6 发表于 2011-1-6 08:21:01|江苏 | 查看全部
什么元件呢?如果是稳定性好的玻璃元件,腐蚀铜的一些化学品不一定会破坏玻璃啊?!
freel 楼主Lv.9 发表于 2011-1-6 11:45:29|中国 | 查看全部
基底是单晶硅。
yang0593 提的方法不会产生表面应力吗?
maofa168 Lv.4 发表于 2011-5-27 01:41:39|广东 | 查看全部
用脱膜砂轮
wangjianheng1 Lv.8 发表于 2011-5-27 11:37:49|湖南 | 查看全部
脱膜剂

回复

您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

投诉/建议联系

admin@discuz.vip

未经授权禁止转载,复制和建立镜像,
如有违反,追究法律责任
  • 关注公众号
  • 添加微信客服
Copyright © 2026 光电工程师社区 版权所有 All Rights Reserved. Powered by Discuz! X5.0 Licensed 鄂ICP备17021725号-1
关灯 在本版发帖
扫一扫添加微信客服
返回顶部
快速回复 返回顶部 返回列表