请问离子源是如何清洗的，角度是否一般为30°？为什么？

faith3h · *发表于* 2010-9-8 19:51:13

请问离子源是如何清洗的，角度是否一般为30°？为什么？本人是初学者，谢谢大家

*发表于* 2010-10-11 22:45:51

什么离子源那部分？还是联系厂家吧

xiaowenyan · *发表于* 2010-10-13 19:33:24

用丙铜可以洗的吧.

xiezhizhi · *发表于* 2010-10-28 22:51:36

直接喷砂
我用霍尔源

jiayuch · *发表于* 2010-10-29 14:07:02

xinliangrizhao · *发表于* 2010-11-4 14:36:03

问题太笼统，是说离子源清洁基片？还是离子源要清洗？如果是要洗离子源那跟角度又有什么关系？是清洁基片吧，安装离子源的角度？

lukaiyan · *发表于* 2010-11-4 19:49:49

是啊！这个问题有点让人费解。

宇宙深处 · *发表于* 2010-12-2 11:19:39

喷砂,细点的,约80号黑钢砂,角度的调整是根据覆盖被镀基板的需要(垂直射入基板为最佳)。

z1206l · *发表于* 2010-12-2 12:46:22

要看哪种离子源？

离子源不同，保养也有区别。

JZNT · *发表于* 2010-12-2 17:21:23

不同的离子源的清理方法也是不同的。

宇宙深处 · *发表于* 2010-12-6 10:24:29

嘿嘿!清洁当然看材质,像有石墨的就不能喷!

longmin · *发表于* 2010-12-7 23:51:57

有角度
是因為要去除孔隙上的污染

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