镀膜速率太高对膜有什么影响？

  镀膜速率太高对膜有怎么样的影响？（一般镀膜材料)  本人也知道就是不怎么全面！

每种膜料的速率是不一样的，速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低，会有大的颗粒蒸发到镀层上面。

太快膜层太松

光洁度、膜的密度等

影响膜层的附着力

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guhua530 发表于 2012-5-2 20:32
光洁度、膜的密度等

谢谢，但是不够全面，我对致密度、膜的强度、内应力、迁移？？？

每种膜料的速率是不一样的，速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度。太高的话膜层密度要低，会有大的颗粒蒸发到镀层上面。

嗯 速率太高或太低会影响膜层的厚度和密度

这个要看什么材料的哈，如高固态的材料，建议束流低一点，高的话，膜的结构很松不紧密，表面光洁度很粗糙，容易膜变，起雾，曲线更会飘逸哈，像MGF2这种融化后成液态的那束流稍微快点，不然料不完全融化，敏感度很强，很难控制。

学习，受教

还是离子源这块，国产机镀TA2O5 1.5埃每秒（伞型工件），进口机集中型离子源(集中型离子源）0.8埃每秒（APS1104），片子不大直径不到20厘米。分散型离子源APS904，也是伞形工件，0.25埃每秒。