LED外延片电致发光测量系统/布鲁克LumiMap

LED外延片电致发光测量系统/布鲁克LumiMap
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LED外延片布鲁克LumiMap电致发光测量系统
美国BRUKER布鲁克LumiMap是电致发光测量系统，在一个简单直观的测试环境集成了所有的EPI谱学和电学测试功能，并提供即时数据，而无需任何晶片的前期处理和样品制备。LumiMap系统利用无损接触式探针，允许控制电流流过晶片，激发EPI的有源层，使其发光，快速准确的收集正像电压、反向电流、发光强度和波长等数据。这种无损测试方法省去了铟点，酸清洗，处理晶片流程，快速精确的收集2-6寸晶片的反向IV特性、光谱强度、波长、Vf等谱学和电学性能指标。
最精准可靠的EPI质量检测
快速准确收集正向、反向IV特性，重复性高
获取电流激发光谱强度、波长、光谱宽度等谱学信息
利用专利的探针设计和边缘接触技术，获取精准、重复性高的Vf信息
利用先进的IV测试模型，获取器件整体性能指标
最简便的EPI质量控制检测
只需几分钟即可获取关键测试数据，大大缩短检测时间
无需任何晶片的前期处理和样品制备，立即获取MOCVD过程生产质量
数秒时间完成无损、多点检测
降低生产成本
机械控制测试平台，提供直观简便的检测软件，帮助用户在外延片生产过程中自定义多点晶片检测，最简便快捷地完成晶片质量控制工作。专利研制的导电探针，超长的使用寿命，大大降低检测成本。此外，LumiMap的精准数据，即时提供GaN外延片制备过程中的性能指标，严格把握质量控制环节，确保更高的产量。
LumiMap电致发光检测器件整体性能
GaN外延片的谱学和电学特性可以极大的影响器件的整体性能。外延片制备阶段，提高产量，降低废品率和提高这些系统的正常运行时间，严格检测、控制波长、Vf等谱学和电学性能指标，从而提高晶片产量，减少废料和改善使用时间，大大降低生产成本。
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