离子源，大家来讨论

coatingli · *发表于* 2004-7-2 22:39:00

是霍尔源好用，还是考夫曼源好用？

莱宝的APS源是不是属于霍尔源呢？

您认为国产的离子源哪一家做的最好，是属于哪种源！

ic5 · *发表于* 2004-7-3 01:07:00

我认为还是RF源最好用,干净、稳定！

coatingli · *发表于* 2004-7-3 01:18:00

RF源是不是只有日本SHINCRON和OPTORUN在用，RF 对人体有害。

日本昭和是把RF源加在基片架上，这样比较麻烦的是离子分布不均匀。

ic5 · *发表于* 2004-7-3 06:20:00

veeco用的也是RF源啊,而且是2个RF源.对于RF源对人体的危害,因为现在的设备都有很好的屏蔽,我想这个伤害应该可以不考虑了!

zz · *发表于* 2004-7-3 17:16:00

HALL和KOFMAN难道不干净，不稳定吗？说来听听。除小日本的设备还有人将RF源用于IAD吗？

ic5 · *发表于* 2004-7-3 17:34:00

还有一种"电弧弯曲过滤"技术,不知道现在有没有应用到薄膜沉积上?

zz · *发表于* 2004-7-3 17:39:00

班组真是见多识广啊。不知”电滤“技术成熟不，有啥优势呢？

ic5 · *发表于* 2004-7-4 16:27:00

“电滤技术”我也是听说啊，也不了解，还请那位大师给普及一下！

zz · *发表于* 2004-7-12 21:23:00

帮主，有人灌水

ic5 · *发表于* 2004-7-12 21:45:00

TO：ZZ

谢谢您的监督，我已将灌水的帖子删除。

阿俊 · *发表于* 2004-7-13 02:57:00

RF确实是个好东西，不今只是上面的好，且最主要的是经济。部品消耗少。

chz321 · *发表于* 2004-7-15 07:12:00

RF源会不会容易打火,清洗会不会方便,请问哪里能找的到关于RF源的资料,

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