[求助]薄膜表面出现散射

few · *发表于* 2006-7-7 21:58:00

最近開始製作IR CUT但是發現玻璃表面幾乎都是"霧面",好像是薄膜表面出现散射

請教各位高手是否能給小弟一些意見

zzzz · *发表于* 2006-7-7 23:59:00

TIO2料吧

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buwzh · *发表于* 2006-7-8 19:23:00

原材料研磨抛光的问题

few · *发表于* 2006-7-9 00:42:00

可是原材是德國SCHOTT D263T應該不會有這樣的問題吧

我是懷疑會不會是SiO2

但也有人說是通氧量的問題

zzzz · *发表于* 2006-7-10 17:04:00

D263T是薄片吧

这种材料挺有意思的.

huhu · *发表于* 2006-7-11 05:22:00

先试试调整通氧参数以及开门时间。如还有问题，再一起交流。

hydralisk-1 · *发表于* 2006-7-12 10:06:00

表面发雾，很大可能是TIO2材料的晶化造成的。晶化的主要原因是温度，你可以试着从这方面入手

kuan · *发表于* 2006-7-13 00:04:00

I think the reason is Tio2

few · *发表于* 2006-7-14 20:54:00

基材 D263T 鍍膜機靶材 SiO2 NbO5 鍍膜機Shincron-RAS1100濺鍍機

原始參數:IR厚度3.8um(34 Layers) Ar 150sccm ; O2 85sccm 霧面

做了幾個小實驗

1. 鍍單層SiO2(1.9nm)+單層NbO5(1.9um) 無霧面

2. IR635厚度3.8um(61 Layers) 霧面(但有少數幾片霧面情況改善)

3. IR厚度3.8um(34 Layers) Ar 120sccm; O2 80sccm 霧面

發現跟基材應該應該無關,也不知道是不是溫度造成

請各位大大指教

tianxia · *发表于* 2006-7-15 18:52:00

Shincron-RAS1100，目前国内南阳利达有，最好的镀膜机，出现这样的事情，找日本人解决，不行让他们赔损失

cchingoo · *发表于* 2006-7-15 23:59:00

34 Layer膜層設計與鍍膜參數會非常重要

huhu · *发表于* 2006-7-16 05:39:00

对你这个问题挺感兴趣。

你说的雾面是不是对着检测灯光看有一层均匀的发白现象（整个面发蒙）。

你给的参数不足，如果可以你话，就补足吧，我比较一下。（速率，氧流量，power，...）

1. 鍍單層SiO2(1.9μm)+單層Nb2O5(1.9μm) 無霧面（修改了一下）

（这个试验也做，佩服～）

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