镀窄带出现无规律漂移现象，大神来给看看啊

我们最近镀的窄带出现无规律漂移。

机器：光驰OTFC-1100，2007年买的。光学间接监控，晶控辅助,离子源，控制波长1084NM。

膜料：sio2,ta2o5.

膜系要求：1064NM在0°12°15°，T>80%。这样就设计出来一个半波在20NM左右的一个窄带，0°中心波长在1073nm。我们设计的膜系是44层。

现象：无规律的偏薄或者偏厚5～20NM，这样膜就用不成了。经常前一罩完全正常，后一罩就漂移了。也有连着好几罩正常，突然出现漂移的。出现漂移后，我们修改控制波长进行修正，会出现膜系完全和上罩曲线一样，没动的现象。再修改控制波长，，膜系会移动两次修正之和的位置。有点乱啊，呵呵，举个例子啊，这次是中心波长在1078，我控制波长移薄5个，正常的话出来的中心波长应该在1073，结果出来中心波长还在1078，然后我又移薄5个，这次出来的中心波长却是在1068位置。好几次都是这样。但是 镀截止膜的时候几乎没出现过这种情况。

解决办法：1.先是怀疑单色仪有问题，换来厂家的装上，没解决。

              2.我们有红外单色仪，换上用红外波长控制，没解决。

              3.换控制波长，波长换到700，没解决。

              4.厂家说可能是装光控片的托盘时间长变形了，买来新的换上，用平行度小的光控片，没解决。

              5.怀疑离子源问题，买来新的栅网换上，没解决。

              6.更换旋转架滚珠，没解决。

              7.更换修正板，没解决。

              8.测量温度，正常，没解决。

目前就实验了这么多办法，实在想不出来了，各位同行有没有好的提议，大家都来讨论交流一下。

看来这个论坛是没啥高手啦，唉～

haisheng_0_0 发表于 2014-3-26 09:20
看来这个论坛是没啥高手啦，唉～

是否可以验证下折射率是否稳定？做单层膜看看。

分布如何?最薄层是多厚,这个层的速率和伞架转速多少?

重复性不好,通常是薄层发生偏差.
发生原因有很多,比如说伞架转速不稳定,
电子枪不稳定.
另外,光控的截止波长也很重要,尽量避开PEAK

嘿嘿，看来激将有用哦，各位不要怪罪啊

ouyuu 发表于 2014-3-26 13:24
分布如何?最薄层是多厚,这个层的速率和伞架转速多少?

谢谢您的回复。最薄层是最后2层，消除次峰的作用，大概是700NM波长的1.5个极值吧，其他层都是1067NM波长的1～2个极值多。我现在在家，具体的说不上来。伞架转速和层的速率一直都没有改动过，我们用这个膜系已经有6年时间了。伞架转动速度我们还做过记录，没有异常。

你说你们这个膜系做了6年了？现在突然不正常了吗？

给你一个风险点供参考：
首先是设备硬件不稳定造成的，修改工艺参数没意义。
可能是监控膜厚的系统不稳定造成的，你修改中心波长或监控波长不解决问题，舍本逐末了。
间接式光控注意下monitor附近的温度是否变化，我以前碰到过这个问题。监控片温度变化了，测试的膜厚也会变化，其实就是tooling变化了。

成膜LogData里，有每层膜的物理厚度，对比着看看。

这个问题每个镀膜人都会碰到的吧？？
是不是真空有问题？充氧的时候看看真空稳不稳。漏气或者充氧不稳定可能性很大。总之一切皆有可能。