Al2O3折射率問題

最近使用4層膜（G/ 0.1847L 1.4320M 1.8470H 0.9271L /A，M=Al2O3,H=H4,L=MgF2）鍍寬帶AR，但出來的結果穩定性比較差，分析的結果是Al2O3層的問題，厚度變化比較大，我分析的結果是Al2O3的折射率不穩定造成，但一直無法做的很穩定，一個星期總要鍍壞1-2鍋，大家幫忙指教一下，Al2O3的折射率如何才能做的很穩定？

我鍍膜的條件是：

鍍膜機：龍翩1100EBA
開始鍍膜真空度：1.2*10-5Torr
加熱溫度：350C
蒸發速率：因晶控問題未使用，使用電流控制，Al2O3單層時間控制在3分30秒--4分鐘左右
充氧： 採用流量控制，Al2O3=5sccm，H4=25sccm，MgF2不充氧

al2o3由于蒸着时出气量很大，一定要让其预溶充分，挡板开时要注意其真空度，如果每次挡板开时真空度的值相差很大对于成膜质量将造成很大的变化

你是按光控还是晶控走的？

TO：老妖！

光控！

不用Al2O3,用M1或M2试试看。

氧化铝预熔时放气很厉害,首先要熔透,而且成膜时速率和充氧尽可能要恒定.建议再多充点氧气.

楼主用时间控制,当然精度差了.

AL2O3无法完全熔透.

要用晶控做啊!用光控的话比较片玻璃的折射率和AL2O3的折射率相近的,所以很难控制的!最好是晶控+枪=自动控制,或者是精度高的光控!

我也说两句,看大家能不能对我的说法指点两下:

以前刚入道时,并不知道太多,当时镀AR膜也是四层膜,基底不定.

G/ (X)SIO2 (X)AL2O3 (X)ZRO2(OH-5) (X)MGF2 /A

(X)为不同膜厚。 高折料两者任一皆可。

头两年都不加氧。用光控,但前期问题老出现在AL2O3上，正常情况下AL2O3走的比较快，一般1.2M的膜厚接近两分钟OK,但会出现突然走的很慢,且曲线变短,此种情况,十有八九则显示AL2O3镀多.后来将膜料定期更新,将用过一段时间的被熔表面取掉,镀前经过充分预熔,效果极有改善.(这个方法是我师付提出的,他叫杨俊)

两年后,这个膜系镀出片子发黄,刚才开始问题集中在OH-5要不要加氧,但经过不但试验,难以得到解决,包括改用进口膜料替代所有国产膜料.依然很糟糕,日方技术员也来到中国进行问题查找,基本上无斩获.

后来我偶用AL2O3加氧试验,情况有所好转,经过多次试给确定出其加氧量,解决了发黄问题.

从理论上讲应该是AL2O3发生了吸收,造成片子发黄透过降低.

现在我用的机子比较烂,电子枪是根本问题所在.AL2O3纯度似乎有问题,熔后表面有淡红色,刚全换的新料前几炉打开挡板真空度很理想,维持在-3帕.但是几炉过后,真空度不断上升,甚至挡板一打开,真空度上升到-2帕,接下镀会继续上升,1.5E-2Pa上升到3.5E-2Pa,有时能搞到4.0,还好现在客户要求不高,所久的AR膜都能被他们承认,但我从心理上却接受不了.但是现场又不愿意改善,认为客户能接受就行,不愿意折腾.也只好做罢.

AL2O3

搂主：

你好！我以前也用光控镀AR膜，波形是W形的，G/M/2H/L/Air

(M=Al2O3,H=OH-5,L=MgF2)，为了使中间的峰值不超过0.5%，把OH-5拆成两层来镀，每层1/4入，并使第二层的OH-5充氧量减少些。现在用的晶控，膜料改用ZrO2，膜系有变动，但还是会用到1/2H这样的结构。感觉ZrO2的负变使镀出来的和设计的差别很大，分光曲线主要就是中间的峰值会抬很高。您在镀ZrO2的1/2H这种结构时，是控制ZrO2的负变，还是在求折射率的时候用非均匀模型考虑ZrO2的负变，然后再设计膜系呢？

学习了。
都很专业啊！
M2很好，就是贵了点。
另外问下各位前辈用AL2O3L老有斑(花斑）是怎么回事。

AL2O3容易失氧
熔后表面红,可能是铜给打上去了