关于mini双级隔离器

本人近日有个mini双级隔离器，器件是光楔型的隔离器，遇到的问题是金属外封造成IL大和ISO小，都是为金属外封帽挤压光纤根部导致的．想请教下高手，为什么挤压会导致ＩＳＯ变小？这让我无法解释，请高手指点

这论坛人气不行啊

俺也做过隔离器，貌似没发现过因为封装帽挤压光纤造成隔离度不够，你讲的是不是金属管压到了准直器的尾部还是全胶结构的隔离器压到了挂Core的那一端的尾纤？可以联系simon.jia@live.cn

楼主，我也是深圳的，前一段时间也遇到这问题了，难道我们是一个公司的？。。

主要是因为光纤受到挤压，弯曲变形，光从纤心射出到包层。
如果在其他位置，光就射出去了，但外封帽造成的是尾部光纤弯曲，就不同了。
1、测ISO时，反向接线的入光端（即器件出光端）受挤压时，射到包层的光经过透镜汇聚，以很偏的角度和位置进入core。这样的条件下，从CORE射出的O光和E光就有可能汇聚到出光的纤心。如此ISO被破坏，IL变大就容易解释了吧，随便弯弯光纤，IL都会变大的。
2、如果是测ISO时反向接线的出光端受挤压也是类似分析了。试验时两种情况同时存在时有叠加作用，这个现象证明了这种分析的正确性。

是不是外封管对core的磁场有影响？

core的有效磁场是磁环的内磁场，是不会受外封管影响的吧，外封管只会影响到磁环的外部磁场