求助！三英寸铌酸锂抛光问题！化学机械抛！！！

现在光学冷加工的抛光方法和以前差不多,考虑换换不同的磨料看看.

这个问题用传统光学冷加工工艺无法解决，且不说楼主的镜片面型怎么样，我们光学冷加工的本质是就是消除基体表面破坏层，就是去除材料加工，在日常加工中抛光一个表面就会去除0.01-0.02mm的尺寸，1000um与楼主说的2um根本不是一个数量级的，更何况楼主还要求厚度基本保证一致了
建议楼主试试近几年新兴的真空离子抛光，据说这种手段对基体表面的尺寸去除是微量的，具体要去除多少我就不知道了

一般的光学加工是达不到你抛光完成后二氧化硅的厚度能够基本保持一致的要求的，控制2um还可以达到的，另外还想问你一下你和LN是什么轴向的