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光学镀膜技术及膜系设计
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9
ofeiying
Lv.8
发表于
2003-11-1 19:14:00
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河南
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充氧量对含有H4的
膜系
有什么影响,影响有多大?
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gaelicjzero
Lv.4
发表于
2003-11-9 05:15:00
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浙江
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H4讨论
h4是什么?f4我到知道。告诉我好了。
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kingman
Lv.3
发表于
2003-11-17 06:11:00
|
陕西
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H4讨论
我用过!但是,因为是新手上路,还不是很清楚,不好意思。哈哈:)
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楼细雨
Lv.2
发表于
2003-11-21 03:10:00
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广东
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H4讨论
H4其化学式为:LaTiO3
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wcb674399566
Lv.6
发表于
2011-10-22 20:33:14
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良哥
Lv.8
发表于
2011-10-24 11:50:52
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广东
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一、H4膜料的特性
成分 钛镧混合物
外观 1-4mm的黑色颗粒
密度 5.9g/cm3
熔化温度 1800℃
沉积温度 2200-2300℃
沉积源 电子束
坩埚 铜或钼
氧气压力 0.8-2×10-4
沉积速率 0.2-0.8 nm/秒
基片温度 大约30-300 ℃
二、H4膜层的特性
基片温度 大约30℃ 300℃
500nm时的折射率 1.99 2.12
400 nm时的吸收 <2×10-4
吸收边缘 300nm
*吸收边缘是指在膜厚为270nm的膜层上,透光率为80%的波长。
三、折射率的散布
基片温度 散布公式
大约30 ℃ n=1.887+25410/波长2
100 ℃ n=1.982+29820/波长2
300 ℃ n=2.009+28880/波长2
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haitao1573
Lv.7
发表于
2011-10-27 23:12:54
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长知识
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Martin_Ko
Lv.4
发表于
2011-11-1 02:12:04
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killjackson
Lv.9
发表于
2011-11-1 10:01:05
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充氧对紫外端影响大,红外不大。
有离子源的话5-25SCCM,根据自己的机器调整
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