中心波长和监控波长的区别

大家谁知道中心波长和监控波长的区别？
当膜系是2：1时，
高折射率材料为氧化锆，低折射材料为氧化硅，
要求在530nm和1060nm高反，中心波长应该选多少？
控制波长应该选多少？要求控制波长在400nm---700nm处，
当膜系是3：1时，以上情况又应该如何？

3:1是什么意思啊，请问，不好意思，没怎么见过这种提法！

YIN的解释简直就是一头雾水啊,郁闷啊..............

我也没听说过这种提法

哈,我也没有听过这种提法

麻烦有说的清楚的出来解释一下下
谢谢！！！！！！！

偶想应该是这样，比如说现在做一个1550nm的AR膜，如果用1550波长的光监控，那么膜系可能是M2HL，但如果你用775波长监控那膜系就会是2M4H2L，但膜系的中心波长只是1550nm位置，对不。
所以监控波长只不过是你光控系统用来进行膜厚控制的调制波长。

ZHONG!~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~~

中心波长和监控波长没有什么关系！一个是膜系设计生成。一个是实现时使用的！

所谓的2：1，3：1是针对多层介质高反膜的反射膜提的，如h2L膜堆，h3l膜堆。

“中心波长和监控波长没有什么关系！一个是膜系设计生成。一个是实现时使用的！”

这个说法是错误的，中心波长和监控波长密切相关。镀膜时候要根据中心波长和所使用的膜系来确定监控波长。中心波长是你所镀制薄膜的中心波长，也可以说是客户要求的，比如1064nm高反膜，那么中心波长就是1064nm，而监控波长是根据你所设计的膜系而不同，如果是用HL膜堆，监控波长是1064nm。如果是H2L膜堆，监控波长是710nm，如果是2H2L膜堆，监控波长是532nm。如果是H3L膜堆，监控波长也是532nm。 这几种膜堆都可以镀制出1064nm高反膜，但是所出现的其他反射带不同。

[此贴子已经被作者于2005-10-26 11:05:16编辑过]

对于HL， H2L， 2H2L等不同的膜系设计，所对应的不同监控波长是通过计算得到的还是基于实际生产的经验总结出来的呢？