ZEMAX 光学设计软件成像暨照明培训班 （青岛 2013年7月15-20日 ）

● 报名咨询热线
南京光研软件系统有限公司
联系人：吴小姐   
电话：025-85099608   
E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn  sales@wavelab-sci.com.cn

●课程介绍
ZEMAX光学设计成像培训班 7月15日—17日   
☆本课程为ZEMAX成像学习课程，专门针对ZEMAX初学者而设计的，他们需要了解光学设计、基本原理和技术，同时进行简单成像系统的设计，这个课程涵盖了ZEMAX的使用基础，定义光学系统、优化、光线像差FAS和其他评价工具、多重结构、切趾法、渐晕和公差的介绍。通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括：
1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因
及平衡像差的方法。
2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。
3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。
4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。
5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。
6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。
7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。


ZEMAX光学设计照明培训班  1月18—20日   
☆本课程涵盖了仪器照明、室内照明的建模设计和分析优化，包括光源的导入、复杂物体的各种构建方式、探测器的建立和分析，膜层的光学属性设定，杂散光和鬼影等高级光路分析，抛物面反光杯的计算及光研技术团队编写的ZPL实例剖析，LCD背光照明和匀光分析，光纤耦合及投影系统的整机设计等内容。通过本课程的学习使学员能轻松掌握ZEMAX非序列模块和混合序列，熟悉照明系统的设计和分析方法。


●课程报名
本次课程分为ZEMAX成像培训班3天，ZEMAX照明设计培训班3天，学员可以单独报名或一起报名。参加照明班要求具有基本的水平，否则学习会有难度。为了学习到更全面的系统设计及软件功能，序列与非序列结合显得尤其重要，同时参加成像与非序列照明课程，会让您轻松学会各种系统设计与模拟。
报名截止日期：2013年7月10日

●课程优势
学员上课期间使用最新版的ZEMAX-IE正版软件，统一安排培训，让您感受到光研独有课程的特色
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材，学员自带电脑，食宿需要自理（提供中餐）
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、南京光研软件系统有限公司联合授权签发的培训证书