光纤光栅刻写平台的国内技术现状-上海光机所

   光纤光栅刻写平台的国内技术现状-上海光机所
   自1978年加拿大通信研究中心的Hill等人刻写出第一根光纤光栅以来，光纤光栅在光通信、光传感、激光器等领域取得了广泛的应用，具有极大的应用价值，是实现纵模/偏振/横模等模式选择、环境感知、滤波、色散管理等多项功能的核心元器件。特别是随着近年光纤激光器的兴起，光纤光栅作为实现全光纤激光器不可或缺的关键元件，也具有了极大的市场需求。
经过多年的发展，研究人员开发了多种光纤光栅刻写方法，从使用光源来看主要有193nm/248nm中紫外准分子激光，334nm近紫外激光，488nm氩离子激光，10.6μm　CO2激光，400nm/800nm飞秒激光；从刻写技术来看主要有内部写入、全息干涉、分波前干涉、静态/扫描相位掩模、在线成栅、直接写入等。
　　中科院上海光机所从20世纪末开始就对光纤光栅展开了研究，包括刻写技术、光栅种类、特性及应用等几乎涉及光纤光栅的各个方面。聚科光电基于光机所在该领域近20年的技术积累，开发了具有良好移植性、可靠性、刻写性能的光纤光栅刻写平台，包括各类核心元器件、集成管理软件、刻写工艺，可以分模块销售也可以整装销售，从而使广大客户在一个较好的技术平台基础上，可以缩短技术研发时间和成本，快速进入光纤光栅领域，有更多精力用于实现客户自身的核心价值。
上海光学精密机械研究所产业化单位南京聚科光电技术有限公司现正做此方面的研发和销售。