[讨论] 磁控溅射镀膜问题

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发表于 2011-7-27 11:17:37|上海 | 查看全部 阅读模式
我用的是直流溅射Ti靶,沉积到单面抛光的单晶硅基底上,100W,Ar 1.0Pa,1h。照理Ti层应该是金属色的,结果靶材中间溅射掉的那圈呈紫色,基底的Ti膜也呈绿紫色。同样的基底,相同的参数,在镀Cr膜、W膜时都是很正常的金属色。

有人说是材料放气的原因,对于放气我不是很懂。既然基底在做别的膜时没问题,那就可能是靶材放气?是钛靶质量不过关吗,里面含有氧气之类的?

回复|共 2 个

filmokay Lv.8 发表于 2011-7-27 16:06:59|上海 | 查看全部
Ti纯金属不容易溅射的吧,容易形成化合物,如TiN等
kl0000 Lv.4 发表于 2012-5-30 14:17:29|北京 | 查看全部
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