双离子束沉积镀膜介绍以应用

    目前，针对于极紫外（EUV）和X射线波段的光学薄膜沉积及其应用受到越来越广泛的关注。例如，极紫外光刻（EUVL），X射线衍射（XRD）以及荧光分析（XRF）等。这些应用都需要光学元件在极短波长范围内拥有良好的反射率。因为涉及的波长光谱范围很短，沉积薄膜的厚度很薄（2nm到10nm左右），所以此类薄膜沉积工艺需要具有很高精度和重复性。另外，依据光学在多层膜中的干涉原理，对所沉积薄膜的均匀性和过渡层的控制也提出了很高的要求。

    面对这种特殊的应用和要求，双离子束薄膜沉积技术（IBSD）优点就大大的体现出来。双离子束溅射薄膜沉积的方法具有很高的重复性及准确的控制性。而且，与其他传统的薄膜沉积工艺相比，双离子束溅射还可以在很多不同的工艺参数方面加以改变（离子束束流，能量，沉积速率，气压等等），从而大大提高薄膜沉积工艺的灵活性。另外，由于沉积过程中辅助离子源的影响，使得该技术沉积的薄膜具有低应力，低损耗，高硬度等特点。

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