以下是引用whpe2000在2005-3-23 17:26:02的发言: 实际上目前应用于大规模镀膜生产的设备以磁控溅射设备居多 特别是在幕墙玻璃和其它高端应用(高质量的金属反光镜、ITO等). 还有一点就是目前磁控溅射中使用的TWINMAG技术已经突破了 其速率低的瓶颈.其速率已经和蒸发不相上下(个别金属除外).
实际上目前应用于大规模镀膜生产的设备以磁控溅射设备居多
特别是在幕墙玻璃和其它高端应用(高质量的金属反光镜、ITO等).
还有一点就是目前磁控溅射中使用的TWINMAG技术已经突破了
其速率低的瓶颈.其速率已经和蒸发不相上下(个别金属除外).
关于twinmag技术,我很感兴趣,翻译成孪生靶溅射技术当否,不知能不能提供一些相应资料
我现在从事TCO薄膜相关研究,目前的设备为倾斜对向直流磁控溅射
以前做过磁性薄膜(巨磁阻相关),同行不吝赐教
我的mail: faverkissjp@yahoo.co.jp
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哦!明白
我自己到网上查公开的资料先,呵呵
谢谢提供信息
我也是做磁控溅射的.
以后多多交流.
我现在主要是做高反射膜,用二氧化钛和二氧化硅交替镀,其实老板并不是做光学薄膜的,所以一切都要自己从头开始做起,不过我们并不是将其应用于光学上,而是想做一套传感系统
高反啊,我还想做点增透膜的东东呢!主要是做TCO膜与基板的过渡层,看看有没有增透效果,我也是刚做,都不知道从何着手,烦
我担心的是界面的问题,另外问一句,膜结构设计用的是什么软件啊??
偶现在是matlab自己拿公式套,呵呵
SiO膜做过渡层,界面O扩散严重?(证明中)影响主要薄膜性能
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