IR-CUT急

marcsle · *发表于* 2007-10-6 19:46:52

我做IRCUT用AL2O3打底，然后H TI3O5,L SIO2组合，无离子源！35层，280摄氏度高温！

snty · *发表于* 2007-10-8 12:39:03

离子源参数不对，吸收太强所致

fasces9 · *发表于* 2011-7-30 15:59:39

marcsle 发表于 2007-10-6 19:46
我做IRCUT用AL2O3打底，然后H TI3O5,L SIO2组合，无离子源！35层，280摄氏度高温！

用280摄氏度高温吗？
我司用250摄氏度

逐梦者 · *发表于* 2011-8-30 19:52:01

研究一下，我是新手

逐梦者 · *发表于* 2011-8-30 19:55:04

我建议下次有这样的问题，最好是插入图片，不要以附件的形式，麻烦！

wangxudong1227 · *发表于* 2011-8-31 00:16:12

为什么第一层用氧化铝呀？
为了增加膜层牢固度？还是为了在尽量少的膜层下镀出要求的曲线呢？

ghtzna · *发表于* 2011-8-31 08:38:01

这个不同的机台TOOLING 是不一样的还有就是工艺参数也是不同的所以还是要靠自己

wdydede · *发表于* 2012-6-10 20:36:26

弱弱地问一下：为什么要用AL2O3打底？先谢谢！
其实从设计上，AL2O3不起作用？

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