离子源辅助镀膜技术

很好,谢谢楼主的贡献!!!!!!!!!!

希望藉著離子助鍍  改善我目前n值  提高n值 謝謝分享

非常感谢啊！！！！！！！！！！！！！

tonghua44@163.com谢谢

好东西

学习一下吧

谢谢！

下了还是乱码，根本没办法看啊

晕，正想下，看评论就知道自己该！

北京镨玛泰克全面提供各种功率离子源以及磁控溅射靶和各种弧源,有需要请联系13693572892  pmtek_lxl@163.com
        一PowerIon系列圆形霍尔等离子源的特点简介

结构先进

等离子体束流大

可在高温环境下长期可靠工作

完全适用于反应气体

悬浮电位显示

安装简便、维护简单运行成本低

空间均匀性强

操作简单
I.       

二阳极膜离子源的特点
        大束流,高密度
        无栅极和灯丝
        适合各种工作气体:O2, N2和
碳氢气体
        能在溅射压强下工作
        离子束能量范围:100~2000eV
        维护简单
        基体预处理提高膜层附着力
        提高膜层聚集密度
        有效控制薄膜内应力,调整成分化学配比,优化显微结构



三受控型阴极弧源
        阴极弧源蒸发时而不产生熔池，可以任意方位布置，可采用多个弧源同时工作。
        离化率高于达80％，显著提高膜层附着力和性能。
        沉积速率快、效率高，无环境无污染、节能效果明显。

四溅射阴极源
        有限元计算磁场设计
        磁铁与水隔离, 避免性能退化
        高靶材利用率
        高溅射速率、高功率密度
        兼容射频和直流溅射模式