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标题: Chirp光纤光栅的制作 [打印本页]

作者: appletea 时间: 2003-4-17 23:56
标题: Chirp光纤光栅的制作
a）两次曝光法这种方法可采用较简单的制作均匀光纤光栅的曝光光路。第一次曝光在光纤上并不形成光栅，而是仅形成一个渐变的折射率梯度，第二次曝光过程则是在第一次曝光区域上继续写入周期均匀的光栅，两次效应迭加便构成了一个ChirP光栅。这种方法的优点是利用了制作均匀光栅的曝光光路，使得制作方法大大简化。 b）光纤弯曲法这是在均匀光栅中引人光纤的机械变形，形成Chirp光栅的一种方法，由于光纤的弯曲角度渐变，造成光栅的周期渐变。这种方法引入的ChirP量不能过大，否则栅齿倾斜，会引起导模耦合成包层模而造成附加损耗。 c）锥形光纤法这是利用锥形光纤形成ChirP光栅的一种方法。可以在锥形光纤两端施加应力发生形变，然后写人均匀周期的光栅，应力释放后，由于锥体各部分的伸长形变不同，造成光栅周期的轴向发生均匀变化，形成ChirP光栅。也可以先在锥形光纤上写人均匀光栅，然后再施加应力，可以得到相同的效果。 d）应力梯度法与锥形光纤法原理相同，只是光纤中应力大小是通过将光纤粘在底座上的胶含量来调节。它的优点是可以分别调节中心波长和光栅的带宽，这对于制作高性能的色散补偿器具有重要的意义。 e）复合Chirp光栅法将一列不同周期的均匀光栅顺序写在光纤上，它最大限度地应用了制作均匀光纤光栅的工艺简单性，具有很大的灵活性。 f）Chirp光栅的全总干涉法制作这种制作Chirp光栅的基本原理是通过在双光束全息光路系统中加入往面镜，使两束光的干涉角度沿着光纤轴向发生连续变化，从而造成光纤的纤芯折射率发生周期性渐变，形成Chirp光纤光栅。

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