清洗剂 纯水 50-60度多次清洗
超音波
法一(洗淨前晶片要是乾淨的, 最好etching後立即洗淨)
1. 清潔劑(洗碗精) 沖水
2. 鹼 沖水
3. 酸(HCl) 沖水--沖熱水
4.IPA脫水
法二
1. HCl+H2O4 沖水
2. 鹼(白色粉泡水) 沖水
3. HCl+H2O4 沖水--沖熱水
4. 微波
5. IPA 脫水
酸鹼洗淨流程圖
酸洗淨(6分鐘) 硫酸硝酸混酸(1:1)的更換,每週2次
↓ ----------------------溫純水煮沸(6分鐘)
鹼洗淨(6分鐘) C-709C 鹼液交換1星期2次
↓ ----------------------溫純水煮沸(6分鐘)
酸洗淨(6分鐘)
↓ ----------------------溫純水煮沸(6分鐘)
溫純水煮沸(10分鐘)
↓
溫純水超音波(10分鐘)
↓
溫純水沖洗
↓
IPA超音波(2分鐘)
↓
IPA超音波(2分鐘)
↓
乾燥
No | 材 料 部 品 | |
1 | 晶片 | |
2 | 硫酸(EL) | |
3 | 硝酸(EL) | |
4 | C-709C | |
5 | IPA | |
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