|
|
本帖最后由 bhutl 于 2014-4-2 10:00 编辑
没有研究过,以下内容来自于一份文献,但是我都忘记了它的出处,还好在最后我看到了一个链接,我尝试打开但是速度很慢 有兴趣的可以去看看。 Eckhardt Optics LLC http://eckop.com/optics/understanding-your-optical-engineer/optical-scattering-versus-surface-roughness/
Ro 表面上理论反射率
Rq 表面上RMS粗糙度
θi 光的入射角
λ 光的波长
算了要来就来全套
对光学系统而言比较关心加工面粗糙度,因为粗糙的表面会造成光线的散射,如光学面是用于反射、折射,光学面上的散射是不可以有的,因此要通过控制加工表面粗糙度降低散射,因而引起了一场光学散射与表面粗糙度的研究,在半个世纪前,Bennett和Porteus提出了“总积分散射”(Total Integrated Scatter——TIS,光学面上光线散射数量的总和)的观点,并在TIS与表面粗糙度之间建立了关系,他们两人共同发表了 “Relation Between Surface Roughness and Specular Reflection at Normal Incidence,”JOSA 51, 123 (1961)之后又扩展到了折射与非正常入射。 公式中体现了几个规则 1、光的散射与反射成正比,这意味着对反射而言必定会有散射,且散射的光比反射的光来的多。 2、散射与Rq有关,而与其测量值没有关系。 3、短波的散射与长波相比要多。 4、正射入光学面比切向射入会有更多的散射。 这些经验法则与相关的观察经验都是合理的。唯独没有意料到的是Rq,记住一点,一个典型表面Rq是Ra的1.4倍,因为它在影响因素中权重太大,因此会有较大偏差,使用Rq可以简单的反应出它的重要性
![]()
Optical Scattering in % versus Surface Roughness in nm For this plot, Ro = 1, λ = 500 nm (blue-green) and θ = 60°.
一张图片作为解释。 图中表面Rq=25nm,散射大约有10%,只要将Rq降低到17nm左右散射就能降低一半,但5%的散射依旧太多,因而要用粗糙度控制散射的最大值,对高反射率表面散射要小于4%,在极端粗糙度较好,通常商业抛光玻璃Rq大约有1.2nm(没做过抛光更没有做过玻璃,能有这个数值吗?)因此散射小于1%而超光滑表面Rq=0.1~0.2nm,大概是1~@atoms,这已是物理上的极限(不知道磁流变、离子束抛光会如何)。
以上内容个人翻译内容,或许作者有误、或者是我理解错误,尤其是对一些名词的解释名称。所有内容仅供参考。
实际加工中做过一次PC材料(聚合物)单点车过后表面Rz从0.4到1.1μm,一直没有小于0.4μm(400nm)。谁能给点意见啊 |
|