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本帖最后由 十一维空间 于 2013-9-2 20:19 编辑
产品推荐(光学软件、镀膜设备、金刚石窗口、金刚石合成设备):
1. 光学设计软件(照明设计、镜头设计、杂光及鬼像分析等)、
物理光学设计软件及服务(DOE、HOE等);
激光模拟仿真软件(固体、半导体、光纤激光器设计);
激光与物质相互作用模拟。
2. 散射测量仪(BSDF/BRDF)、非球面干涉仪;
各种蒸发、溅射镀膜设备(Evaporator / Sputter)
——热丝,电子束,电感;Reactive, 直流, Confocal, 射频,non-reactive
——金属膜(Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN)
——光学膜、单/多层膜、磁性膜、氧化膜、非金属膜等
——衬底旋转,衬底倾斜——角度精度0.0005度、重复性0.01度
-----高真空(10^-7 至10^-8 Torr)、超高真空(10^-11Torr)
PECVD——过渡金属膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、类金刚石;
Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料处理
plasma treatment设备------刻蚀、灰化、功能化处理(亲水、疏水)、超洁净
3. 金刚石窗口及其合成设备MPCVD / HFCVD:
——合成金刚石多晶(窗口)材料(紫外窗口、红外窗口、激光窗口、微波窗口)
——合成超纳米晶金刚石:用于MEMS,bioMEMS,RF MEMS,3D structures.
MPCVD可沉积直径8-12英寸光学级金刚石窗口/超纳米晶
——合成单晶金刚石(用于单晶刀具、宝石、laser crystal、量子计算和量子信息)
高纯度单晶(杂质浓度低于1ppb)、高电子迁移率掺杂金刚石(B, N, P)
——其中HFCVD可以沉积的0.5m2金刚石薄膜,金刚石罩;
——提供金刚石/蓝宝石金属化、钎焊服务。
欢迎联系,我们将为您推荐最适合的配置!
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邮箱:tianyu822@gmail.com
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