|
|
接帖子 < 关于tooling与TFC中group的方法>
在晶控仪中, 材料的比例系数即Tooling的定义为
真实Tooling = 样品材料层厚度/晶振片材料层厚度 ....<1>
样品即用户的产品,通常为玻璃片,样品厚度是指 样品上测量出来的 材料厚度。
这里的晶振片材料层厚度是指 晶振片上真实记录的 物理厚度,用户是看不到的(除非Tooling=100%),不是指晶控仪显示厚度!
Tooling就是为了让晶控仪显示厚度(设计厚度) 等于 样品实际厚度的,于是,晶控仪显示厚度是包含了Tooling的!
晶控仪显示厚度(即设计厚度) = 晶振片材料层厚度 * 设定Tooling ....<2>
由1,2式可见,如果设定Tooling 等于 真实 Tooling值,那么 晶控仪显示厚度(设计厚度) 就与 样品材料层厚度一致了。
虽然定义简单,但修正时的式子理解起来稍有点绕人,现略述如下
假定第一次设定 Tooling值为 T1,设计值为100nm,如果样品材料层厚度为 90nm(取下后测量出的),
则 真实Tooling = 样品材料层厚度 / 晶振片材料层厚度 ...根据定义式 <1>
= 样品材料层厚度/(设计厚度/设定Tooling) ...代入 <2> 式
= 设定Tooling * 样品材料层厚度/设计厚度
= T1 * 90nm/100nm
=90% (假定第一次设定Tooling T1 = 100%)
好了,将第二次Tooling改为 90%,再重复一次实验,假定真实Tooling不变,设计值仍然是 100nm。
晶振片上记录的材料层厚度 = 设计厚度/ 设定Tooling = 100nm/90% = 111.11 nm ...根据<2>
而样品材料层厚度 = 111.11nm * 90% = 100nm = 设计厚度 ...根据<1>
你记住没有?反正我是记不牢,在此写下也方便日后查询,呵呵。 |
|