hall源与电子枪蒸镀膜料（升华），极易出现干扰，导致晶控报警失效，如何解决？

ferry · 发表于 2014-1-17 20:33:23

如题，用电子枪蒸发升华类膜料，如ZnS，所用hall源与电子枪容易发生干扰，具体表现在，电子束斑不稳定，当其跳动较大时，导致晶控报警失效（假失效，life值很高，新换亦如此），此现象不是一直发生，但一炉膜系总会发生一两次。（）
如单开离子源时，晶控无此现象；
如单开电子枪时，也一样无此现象！
按离子源厂家说法，对两者进行了屏蔽处理，略有改善，但未能根治。

不知谁还遇到此类问题，如何彻底解决的？
换kafuman源？（方向性好，离子与电子不易发生干扰）

MorningTech · 发表于 2014-1-19 16:19:03

这个问题要关注一下。里面实际含了两个问题，一是电子枪与离子源之间干扰，二是晶振失效。
一、电子束斑的位置由高压、偏转及扫描磁场决定。
1. 高压此时是否稳定？
2. 偏转及扫描电路受到干扰？电子枪扫描控制器的接地线拉到对外接地的铜排上，不要拧在电控柜上了事。
3. 离子源会产生附加磁场影响？如果做磁屏蔽的话，要用导磁材料，如软铁。放个铁皮在二者之间间试试。
二、晶振失效，是在束斑跳动大时候才发生？晶振失效的原因比较多。
要排除电干扰的可能性。再将离子源、晶控仪的接地线分别拉到接线铜排上，加粗接地线铜排到接地桩之间的电缆，接地电阻再确认。或是某根电缆接线不太好，对地有轻微放电。做清洁保养。

clark007 · 发表于 2014-1-20 10:43:29

苏州膜头 · 发表于 2014-2-5 22:30:44

楼主解决了吗？？？

crl0129 · 发表于 2014-2-6 09:50:12

[讨论] hall源与电子枪蒸镀膜料（升华），极易出现干扰，导致晶控报警失效，如何解决？

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