请问那个高手帮帮我,,我用有离子源的机台镀膜膜层不牢固那是什么问题啊???

最近做IR出现大面积均匀分布细小亮点请教各位出现原因及解决办法。个人分析可能如下：因为亮点出现为“大面积均匀分布细小亮点”，而且研磨后清洗片很干净，所以亮点应该为镀膜所造成1 真空室不够干净 这几天真空清扫机出故障，仅靠吸尘器打扫，内部可能有粉尘残留（可以拿无尘布IPA擦洗真空室后实验）2 SiO2 （a) SiO2的沉 ...

我是新手﹐正在學習鍍膜。 请教各位前辈： 使用TFCabc軟體設計一膜系﹕膜料是sio2﹑ti3o5(tio2)﹐R%﹑層數隨機(點檢)﹐ 比如R%0.2﹑4層﹐該如何處理?R%﹑層數其他隨機數值時又怎樣處理? 是否直接在Layer Front上確定材料﹐然后優化設計就ok了?還有其他方法嗎? 鍍膜時鍍在Front和Back后面有什么區別? ...

各位大虾，本人现在准备在南光机器上做1200-1600nm的增透，要求R最大

各位大哥，这个问题我很好奇，一直在想，总是没有结果。 就是膜料的熔点跟我们蒸发的电流的关系，比如MGF2的熔点在1100左右，H4的熔点在2100左右，我们预熔和镀膜的电流有相应的关系吗，电子枪的电流大小和电子打在膜料上的温度会瞬间升高到上千度，我就是很好奇这个上升的温度大概是多少度。我只能看到电流加上去后，膜料 ...

nd:1.6134(S-NBM51) 光譜要求 440-660nm R絕對小於0.24 有沒有人做得到 mail:longmin.ko@gmail.com

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我想在电子枪的坩埚里再加装一个小坩埚,两个坩埚紧密结合,省去清洗的麻烦,防止膜料混杂.不知会产生什么样的影响?用什么材料的最好???现在是铜坩埚.

如图,小弟想知道crystal control里的各个选项的具体含义,以及相对应的参数如何设置. 望各位大哥不吝解答.

最近要做一个ND为1.8466的棱镜pbs ，45度入射，正负12度 可是无论怎么模拟都无法做到 420-680波段 45度 TP>93 TS85 TS80 TS