ROTH&RAU公司IonSys系列介绍

IonSys系统

高精密离子束刻蚀（IBE） 离子束薄膜沉积系统（IBD）



ROTH&RAU公司的IonSys系统主要应用于干法刻蚀，离子束薄膜沉积两方面，基于公司强大的离子源研发技术，使得该系统可以精准的控制加工（或沉积）过程中的去除（沉积）速率、离子束入射角度、离子束流密度以及能量等参数。另外，IonSys系统还可以配备氦加热系统，大大提高了实际生产和研发的工作效率。




IonSys 500

该系统配备微波离子源，单个元件自动装夹Load-lock系统，最大可以加工6”平面元件。离子源可用于氟气、氯气等反应气体的反应离子束刻蚀（RIBE,CAIBE）。性价比较高，适合于实验室工艺开发和研究。


IonSys800系统

该系统配备射频（RF）离子源，可使用批量元件自动装夹Load-lock系统，最大可以加工8”平面元件。IonSys800系统可兼容工业生产上的离子束刻蚀加工以及薄膜沉积工艺，拥有极高的生产效率，可应用于微电子和光学产业。


IonSys1000系统

该系统配备两个微波激励离子源，用于双离子束（反应）溅射薄膜沉积工艺，单个（或批量）元件自动装夹Load-lock系统，8种转鼓式溅射靶材，最大可以沉积8”平面基底，。IonSys1000系统兼容光学表面预处理加工以及薄膜沉积工艺，大大提高薄膜镀制过程中薄膜的均匀性和重复性。


IonSys1600系统


该系统配备两个矩形微波激励离子源，单个元件自动装夹Load-lock系统，适用于大表面基底双离子束（反应）溅射薄膜沉积工艺， 6种转鼓式溅射靶材，最大可以加工500×200mm^2光学元件。IonSys1600系统可应用于X射线、紫外、远紫外等短波段高精密光学薄膜的沉积。紫外波段薄膜均匀性＞99.9%，批次重复性＞99.9%。

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