有谁能够提供如下要求的基片，请与我联系。

xf951 · *发表于* 2004-4-26 17:23:00

1.尺寸，50*130mm

2.基片材料，浮法玻璃，6mm

3.平行度，50mm方向1sec，130mm方向15sec（检测时，剪切干涉条纹应垂直于130mm方向，且平直）

4.波前畸变，0.25waves

5.表面质量，80-50

大量需求，有可提供者，请与我联系。Fanzhengwei@sina100.com

另，我想了解双面抛光工艺能否提供以上基片，有做双抛的同志请给点建议，谢谢！

刘建 · *发表于* 2004-4-27 02:05:00

我有，成本高，面形能否放宽。

FUHUSUN@HOTMAIL.COM

bgybh · *发表于* 2004-5-1 21:35:00

请问，具体量有多少？

yangxm · *发表于* 2004-5-5 04:32:00

双面抛可以保证光洁度、平行度，但很难保证光圈。

lczhy00001 · *发表于* 2004-5-5 17:58:00

以下是引用yangxm在2004-5-4 20:32:08的发言： 双面抛可以保证光洁度、平行度，但很难保证光圈。

光圈可以保证，但最少也要用8英寸抛光机！

量产上不去！

guangxuehao · *发表于* 2004-5-7 17:59:00

半个圈是太高了一点,但也不是不可能的!!

killjackson · *发表于* 2004-5-8 17:10:00

有必要么，浮法玻璃？

zszxg · *发表于* 2004-5-8 19:14:00

半个圈是太高了一点,但也不是不可能的!!

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