厚膜的比例膜厚监控问题

有没有高手做过厚膜的膜厚比例监控？
基板沉积100μ，但是石英头子上只沉积10μ。通过套筒或其他装置使得石英头子上沉积的膜少些，延长晶振片寿命。

这是个好主意啊，第一次听说。省钱秘笈

μm级别的你可以考虑用一下时间控制，好多晶控仪都有这个功能，个人觉得省一个水晶和废一灶产品之间还是要权衡再定！！

也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样)，然后挡住水晶Sensor， 挡住期间用监控时的平均功率输出。
这种方法需要你的蒸发源相对稳定。

//借问一下， 100um厚度大概已不是光谱要求了，那是出于什么样的功能需求呢？

otxtc 发表于 2011-10-1 10:58
也可参考某晶控的 RateWatcher 功能。
监控一段时间(取样)，然后挡住水晶Sensor， 挡住期间用监控时的平均 ...

你的主意很好。
我们也这么考虑过。
厚膜做X射线闪烁体用的。

如果速率真的稳定，或许直接用时间控制更方便。
固定蒸发功率，蒸发一定时间，用台阶仪量厚度(什么方法无所谓)，然后换算出速率。 以后就是速率乘以时间的事情。
看你的工艺了。